物理气相沉积（PVD）技术是指在真空条件下采用物理方法，将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，通过低压气体（或等离子体）过程在基材表面沉积出具有特定功能的薄膜，物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。 PVD（物理气相沉积）镀膜技术主要分为三大类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。物理气相沉积的主要方法有：真空蒸发镀膜、溅射镀膜、电弧等离子镀膜、离子镀膜和分子束外延。相应的真空镀膜设备有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。 更多

PVD（物理气相沉积）技术是制备薄膜材料的主要技术之一，用于制备薄膜材料的物质称为PVD镀膜材料。溅射和真空蒸发镀膜是两种最主要的PVD镀膜方法。 更多

物理气相沉积（PVD）是在真空下采用物理方法，使材料源（固体或液体）表面汽化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并在表面沉积具有特定功能的薄膜的技术。本文还将介绍pvd的基本原理和特点。 更多