三种PVD镀膜工艺的分类

PVD镀膜 工艺一般分为三种类型，即 真空蒸发, 溅射 和 离子镀.

1. 真空蒸发

金属在真空中受热时会变成气体并蒸发，真空蒸发就是利用了这一原理。处理多在10-5Torr以下的真空中进行，可采用金属及各种化合物作为附着材料，其应用实例有透镜、反射镜、塑料件等；但金属表面硬化的用途很少，主要用于 装饰物品.

2. 溅射

当高能粒子撞击目标时，目标中的分子或原子被击飞。其原理是用靶材作为阴极，基板作为阳极，当在10-2托左右的Ar气氛中施加高压时，阴极附近的Ar气体电离变成Ar+，Ar+与阴极碰撞，被Ar+离子击出的分子或原子撞击基板并积累形成薄膜。

溅射的应用范围很广，薄膜的功能是耐磨、耐腐蚀、耐热、抗静电或装饰目的，但由于粘附问题很少用于工具应用。它适用于批量连续涂层，例如手机部件。

3. 离子镀

最有效的PVD镀膜工艺是离子镀法；该方法利用电弧击打目标，使目标原子被激发并与反应气体发生反应，形成沉积在工件表面的化合物。在炉子达到高真空后，引入惰性气体并施加偏压以产生氩离子 (Ar+) 和带负电的电子 (e-)。带正电的氩离子会撞击偏带负电的基材，清洁工件表面；然后引入反应气体以在靶材和基材之间形成浆料以进行涂覆。该方法由于成膜快、附着力好而用于切削刀具的涂层。

大多数公司都使用最先进的阴极电弧方法进行涂层操作。该方法比其他方法具有更高的解离速率、更均匀的附着力和最佳的密度，多用于金属硬质涂层，特别是要求耐磨的物体。

PVD真空离子镀膜与传统电镀的区别

真空镀膜的厚度在微米范围内，1μm是传统电镀厚度的十分之一，因此工件的精度不受镀膜工艺的影响。

PVD真空离子镀膜与电镀方法膜层形状的差异

一般来说，湿法电镀在表面产生薄膜层，无论基材的原始形状如何，该薄膜层都趋于平坦。 PVD 涂层根据基材的高度和形状在基材上均匀地形成一层，并且涂层的形状遵循原始基材的形状。