什么是PVD？

物理气相沉积 （PVD）是在真空下采用物理方法，将材料源（固体或液体）表面汽化成气态原子或分子，或部分电离成离子，通过低压气体（或等离子体）工艺在基体表面沉积出具有特定功能的薄膜的技术。物理气相沉积是主要的之一 表面处理技术。 PVD技术出现于20世纪70年代末，所制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、非常好的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速钢刀具领域的初步成功应用引起了世界各国制造业的高度关注，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也对涂层在硬质合金和陶瓷类刀具上的应用进行了更深入的研究。

PVD镀膜 技术主要分为三大类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。物理气相沉积的主要方法有：真空蒸发镀膜、溅射镀膜、电弧等离子镀膜、离子镀膜和分子束外延。相应的真空镀膜设备有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。

随着沉积方法和技术的进步， 物理气相沉积技术 不仅可以沉积金属和合金薄膜，还可以沉积化合物、陶瓷、半导体和聚合物薄膜。

物理气相沉积技术从20世纪初开始就有一定的应用，但近30年来迅速发展成为一种具有广阔应用前景并有环境友好、清洁化趋势的新技术。在钟表行业，特别是 高档手表金属外观件的 表面处理，已达到越来越广泛的应用。

物理气相沉积技术的基本原理可分为三个工艺步骤。

(1)电镀材料的蒸发：这意味着电镀材料蒸发、升华或溅射，即通过电镀材料的蒸发源。

(2)电镀材料的原子、分子或离子的迁移：从汽化源供给原子、分子或离子后发生碰撞，产生各种反应。

(3)的原子、分子或离子 电镀材料在基体上沉积。

物理气相沉积技术工艺简单，环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光电导、压电、磁性、润滑、超导等性能的膜层。

随着高新技术和新产业的发展，物理气相沉积技术涌现出许多新的先进亮点，如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术、大型矩形长弧靶材及溅射靶材、非平衡磁控溅射靶材、双靶技术、带状泡沫多弧沉积缠绕电镀技术、带状纤维织物缠绕电镀技术等，采用成套电镀 设备，向计算机全自动化、大规模工业化规模发展。