走进昆山英利悦电子的生产车间,你会看到令人惊叹的一幕:在高真空室内,一种看不见的“魔法”正在悄然展开。普通的金属、塑料或陶瓷部件,通过一系列的物理变化,“生长”出均匀、致密、
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核心答案:阐明PVD涂层可以同时满足环境合规性和性能标准。 环境优势:简要描述PVD工艺的核心环境特征。 性能:总结手机组件所需的关键性能标准。 客户保证:补充认证和服务支持。
PVD(物理气相沉积)和CVD(化学气相沉积)是 两大薄膜镀膜技术。 PVD 蒸发材料 通过物理手段(例如加热或溅射),导致 附着力强,但沉积速度较慢。 CVD 通过以下方式形成涂层 化学反应,关闭
1. 镀金属膜层,将待镀产品放入装有金属靶材的镀膜室中,开启泵真空和加热装置对基片进行加热,使基片真空度达到1×10-3Pa并达到80-150℃工艺温度,室中通入10-1000sccm氩气,启动溅射电源,设置溅射功率1-15KW,镀膜时间10-300S,得到金属膜层厚度1-100nm,金属膜层铜(Cu)、银(Ag)、铝(Al)、铝(Al),金属膜层颜色可调。得到厚度为1-100nm的金属膜层,所述金属膜层为铜(Cu)、银(Ag)、铝(Al)、铬(Cr)等金属层,或镍铜(NiCu)、镍铬(NiCr)等合金层。
2、镀低折射率膜层,将 镀完金属膜层后的产品送入 装有可形成低折射率膜层的靶镀膜室中,加热至工艺温度80-150℃,通入工艺气体,设定溅射功率1-15KW,镀膜时间1-300S,得到厚度1-100nm的低折射率膜层,该低折射率膜层为氧化硅,氮化硅等膜层。
3、镀高折射率膜层,将镀完低折射率膜层后的产品放入装有可形成高折射率膜层靶材的靶材镀膜室中,加热至工艺温度80-150℃,通入工艺气体,溅射功率1-15KW,镀膜时间1-300S,得到厚度1-100nm的高折射率膜层,所述高折射率膜层为氧化钛、钛氮化物、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层,该高低折射率膜层的工艺气体为Ar、N2、O2中的至少一种,其中Ar气流量为10-1000sccm,N2气流量为10-1000sccm,O2气流量速率为10-1000 sccm。
4、重复步骤二、三多次,得到不同颜色的膜层,重复步骤二、三1至100次。
锆靶+氮:黄绿色,带金色色调
锆靶+甲烷:深黑、浅黑
锆靶材+氧气:白色透明薄膜
锆靶+氮气+甲烷:金、仿玫瑰金
铬靶+甲烷:深黑色和浅黑色
铬靶+氮气:浅黑色
铬靶+氮气+甲烷:银灰色
铬靶+氧:浅黄、紫、绿
不锈钢靶+氧气:紫色
不锈钢靶+氮气:蓝色
不锈钢靶+甲烷:亮黑色
硅靶+氮:黑色
硅靶+氧:云白色,透明膜
硅靶材+甲烷:黄、绿、蓝、黑(靶材纯度高于99%只能调整为黑色)