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PVD(物理气相沉积)和CVD(化学气相沉积)是 两大薄膜镀膜技术。 PVD 蒸发材料 通过物理手段(例如加热或溅射),导致 附着力强,但沉积速度较慢。 CVD 通过以下方式形成涂层 化学反应,关闭
抛光 是利用机械、化学或电化学作用降低工件表面粗糙度以获得光亮、平整表面的加工方法。它是利用抛光工具和磨粒或其他抛光介质对工件表面进行的光整加工工艺。
抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度,而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的,有时也用来消除光泽(消光)。抛光轮通常用作抛光工具。抛光轮一般由多层帆布、毛毡或皮革制成,两侧夹有金属圆板,其轮缘涂有由微粉化磨料和油脂均匀混合而成的抛光剂。
1、超声波抛光
将工件置于超声波场中的磨料悬浮液中,超声波场取决于超声波振动。在工件表面产生磨料研磨和抛光。超声波加工宏观力小,不会引起工件变形,但工装制作和安装较困难。
超声波处理可以与化学或电化学方法相结合。在溶液腐蚀和电解的根源上,应用超声波振动搅动溶液,分离工件表面的溶解产物,使表面左侧的腐蚀或电解质均匀;超声波在液体中的空化作用还可以抑制腐蚀过程并有利于光的出现。
2.电解抛光
优点是镜面光泽长、工艺稳定、污染小、成本低、耐腐蚀性好。其缺点是抗污染能力强,一次性加工设备投资大,大型复杂零件需要工装、辅助电极,大规模生产还需要冷却设备。适合大批量生产,重要用于高档产品、出口产品、耐用品,其加工工艺稳定,操作相对简单。
电解抛光根部的原理与类似 化学抛光,即选择性溶解的物质外观小而突出,使外观光滑。与化学抛光相比,阴极反射效果明显且更好。
3、化学抛光
其优点是加工设备投资少,可以抛光复杂零件,速度快,效率高,防腐性能好。其缺点是亮度差、气体溢出、需要通风、加热困难。适合加工小批量杂件及发光要求不高的产品小零件。
化学抛光涉及比凹面更好地在化学介质中溶解材料的宏观突出物以获得光滑表面。该方法的重要优点是无需额外设备即可抛光大量工件,并且可以同时抛光多个工件。化学抛光的核心问题是抛光液的配制 。 通过化学抛光获得的表面粗糙度通常为10μm。
4、机械抛光
机械抛光是通过切削加工和材料表面的塑性变形来获得光滑表面的抛光方法。手动一般采用油石带、百叶轮、砂纸、砂轮等,特别是对于旋转体的外观。可使用转盘等辅助工具,外观质量要求可采用超精研抛方法。超精抛光是一种特殊的磨削工具。在磨料溶液中它被压在工件的已加工表面上并高速旋转。通过该技术可以获得 Ra 0.008 μm 的表面粗糙度,这通常用于光学镜片模具。
5. 流体抛光
流体抛光依靠流体的高速流动及其携带的磨粒将工件表面冲刷至抛光目标。常用的方法有:磨料辐射处理、流体辐射处理、流体动力磨削等。流体动力磨削是通过液压驱动,让携带磨粒的液体介质在工件上高速来回流动。
6、磁力研磨抛光
磁力抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷对工件进行磨削,这种加工方法效率高、质量好。