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关于手机行业PVD镀膜技术

浏览数量: 36     作者: 本站编辑     发布时间: 2022-05-18      来源: 本站

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PVD 是一种在真空条件下通过将材料物理沉积到待镀工件上来制备薄膜的技术。


PVD镀膜及 PVD镀膜机

PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜三大类。对应PVD技术的三大分类,相应的 真空镀膜设备 也有真空 蒸发镀膜机、真空 溅射镀膜机 和真空 离子镀膜机。 近十几年来,真空离子镀膜技术发展最快,已成为当今最先进的表面处理方法之一。当我们说PVD镀膜时,我们指的是真空离子镀膜;当我们说PVD镀膜机时,我们指的是真空离子镀膜机。

PVD(的具体原理离子镀膜)技术是在真空条件下采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发材料和气体电离,利用电场的加速作用,使被蒸发材料及其反应产物沉积在工件上。采用PVD镀膜技术生产的膜层具有高硬度、高耐磨性(摩擦系数低)、良好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时,膜层能显着提高工件的外观装饰性能。


PVD涂层技术的应用主要分为 装饰涂层工具涂层两大类。. 装饰涂层的目的是改善工件的外观和色泽,使工件更加耐磨、耐腐蚀以延长其使用寿命。工具电镀的目的是提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命;主要用于各种刀剪、车刀(如车刀、刨刀、铣刀、钻头等)、各种五金工具(如螺丝刀、钳子等)、各种模具等产品。


可采用 PVD ​​涂覆的涂层类型

PVD镀膜技术是一种环保的 表面处理 方法,能够真正获得微米级的镀层,无污染。可生产各种单一金属薄膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物薄膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物薄膜(TiC、TiCN),以及氧化物薄膜(如TiO等)。 PVD镀层厚度为微米级,一般为0.3μm~5μm,其中装饰镀层厚度一般为0.3μm~1μm,因此可以改善工件表面的各种物理、化学性能,对工件的原始尺寸几乎没有影响,镀后无需进一步加工。金黄色、咖啡色、古铜色、灰色、黑色、灰黑色和七色。可以通过控制镀膜过程中的相关参数来控制颜色;涂装后可通过相关仪器测量颜色来量化颜色,以确定颜色是否符合要求。


PVD镀膜与传统化学镀(水性镀)的异同

PVD镀膜与传统化学镀的相似之处在于,都属于表面处理的范畴,都是以某种方式将一种材料的表面覆盖在另一种材料的表面上。两者的区别在于:PVD涂层与工件表面的结合力更大,涂层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性更好,涂层的性能更稳定; PVD涂层不会产生有毒或污染物质。


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