真空镀膜行业发展概况

真空镀膜 是 在真空环境下将金属或金属化合物以气相形式沉积到材料（通常是非金属材料）表面的它也被称为真空金属化，因为涂层通常是金属薄膜。 物理气相沉积工艺（PVD） 。 广义上的 真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面 真空蒸镀 聚合物等非金属功能薄膜。

真空镀膜有 蒸发镀膜、, 溅射镀膜 和 离子镀膜三种形式。其中，被蒸发材料的分子通过电子碰撞而电离，并以离子的形式沉积在固体表面上，称为离子镀。该技术由 D. Metoks 于 1963 年推出。离子镀是真空蒸发和阴极溅射技术的结合。 真空离子镀 又可分为电弧离子镀、磁控溅射离子镀、空心阴极离子镀三种。

真空镀膜 的功能 是多方面的，这决定了其应用的丰富性。一般来说，真空镀膜的主要作用包括赋予镀件表面较高的金属光泽和镜面效果，使薄膜材料上的膜层具有优异的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。例如表壳仿金镀层、机械工具镀层等。

表面处理的 快速发展和广泛应用 被认为是制造领域的重要进步，以其实用性和高质量、高效率、低消耗的特点在制造和维修行业中占据市场，并呈稳步增长趋势。目前，技术成熟并投入实际工业应用的表面处理技术有数百种。表面加工技术不仅是保证产品内在质量的关键，也是保证产品外观质量的重要手段。

PVD技术 成为主流

当今涂层行业主要使用两种生产方法，化学气相沉积，也称为化学气相沉积（CVD），和 物理气相沉积，也称为 真空沉积（PVD） 。化学镀膜是将含有构成薄膜元素的气态或液态反应物以及反应所需的其他气体的蒸气引入反应室，在反应室中在基材表面发生化学反应而生成薄膜的过程。在化学镀膜过程中，很容易产生溶液污染，如果镀件表面杂质较多，镀层效果不好。化学涂层需要较高的反应温度，一般控制在1000℃左右，但许多基材材料无法承受如此高的温度，其性能会恶化。例如，如果将TiN气相沉积在硬质合金刀具上，从基体扩散出来的碳会与溶液发生反应，形成脱碳层，脱碳层的韧性较差，抗弯强度较低，导致刀具寿命较短。 PVD 技术 解决了化学镀膜中溶液污染的问题，不产生有毒或污染性物质，膜层更坚硬，耐磨、耐腐蚀能力更好，性能更稳定，能够产生色彩缤纷的膜层。

因此，从行业技术发展趋势来看，等离子处理和真空法将成为行业技术发展的未来方向。

环保产业因应用多元化而蓬勃发展

涂装 技术 从重污染到轻污染直至未来的无污染，创新是前提，随着新型节能环保 真空机械 设备的发展必将改变整个行业。一方面， 表面处理技术的发展趋势 是向低能耗、无污染技术发展。它取代了传统的电镀和化学处理方法，减少了传统工艺方法产生的污染，保护了环境。另一方面， 表面处理技术 可以对被处理物体的表面进行改性，增强被处理物体表面的耐磨性、耐腐蚀性和光滑度，大大减少了被处理物体使用过程中的损耗和浪费，也起到了节能环保的作用。掌握了低能耗、无污染的先进技术的企业才能率先占领市场。