化学抛光的工艺条件

基本原理

化学抛光是在没有电源的情况下产生抛光效果，其抛光原理与利用电流作用的电解抛光在本质上没有太大区别。化学抛光的效果一般比电解抛光的效果差。化学抛光时，由于材料质量不均匀，引起局部电位差，产生局部阴阳极区，形成局部短路微电池，引起阳极局部溶解。而在 电解抛光中 由于外加电位的作用可以完全消除这种局部阴极区域，进行全面电解，所以效果比较好。

工艺条件的控制

①温度。 化学抛光时，随着抛光液温度的升高，溶解速率显着增加。另外，强氧化性酸（如浓硝酸、浓硫酸等）在高温下氧化也会明显加剧。在化学抛光中，由于这些酸的溶解和氧化同时发生，因此在大多数情况下 在进行钢、镍、铅等金属需要升高温度然后进行化学抛光，如果温度低于一定值，表面就不会出现光腐蚀，因此形成光泽表面有一个临界温度，在临界温度以上一定温度范围内，抛光效果最好。并且这个温度范围根据溶液的成分而变化。如果高于这个温度范围，就会形成麻点、局部污点或斑点，使整个抛光效果降低。另外温度越高，金属表面的溶解损失越大。 化学抛光之前将抛光液加热到较高的温度。

②抛光时间。 要获得良好的抛光效果，需要花费一定的时间。如果抛光时间太短，只能得到没有光泽的梨皮状表面。如果时间过长，不仅溶解损失增大，而且加工表面会出现污点或斑点。因此存在一个合适的时间范围，该范围受材料、抛光液的成分和抛光温度等因素影响，通常很难预测，除了用实验测定外，没有其他方法。中经常产生氢气 化学抛光，这是对氢脆敏感性材料进行抛光时必须注意的问题。此外，抛光液温度高达 100-200°C 时会出现退火效应。为了尽量减少氢脆和退火的影响，需要在最合适的温度范围内选择尽可能短的抛光时间。